Постоянная ссылка
https://www.standards.ru/document/6789322.aspx

BS ISO 17109:2015

Surface chemical analysis. Depth profiling. Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy. Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films

На языке оригиналаПоложить в корзину
Заказать перевод

Библиография

ОбозначениеBS ISO 17109:2015
Заглавие на английском языкеSurface chemical analysis. Depth profiling. Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy. Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films
Количество страниц оригинала28