GB/T 26070-2010 | | | Characterization of subsurface damage in polished compound semiconductor wafers by reflectance difference spectroscopy method |
|
|
 |
Библиография | Обозначение | GB/T 26070-2010 | | Заглавие на английском языке | Characterization of subsurface damage in polished compound semiconductor wafers by reflectance difference spectroscopy method | | Дата опубликования | 2011-01-10 | | Дата вступления в силу | 2011-10-01 | | Код МКС | 77.040.99 | | Степень гармонизации | | | Количество страниц оригинала | 16 | | Статус | Published | | Тип стандарта | voluntary national standard | | Язык оригинала | Chinese | | Доступные языки | | | Имя файла | | | GPQ | H17 | |
|
|
Стандарт GB/T 26070-2010 входит в рубрики классификатора:
| | |
|