GB/T 25188-2010 | | | Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy |
|
|
 |
Библиография | Обозначение | GB/T 25188-2010 | | Заглавие на английском языке | Thickness measurements for ultrathin silicon oxide layers on silicon wafers X-ray photoelectron spectroscopy | | Дата опубликования | 2010-09-26 | | Дата вступления в силу | 2011-08-01 | | Код МКС | 71.040.40 | | Степень гармонизации | | | Количество страниц оригинала | 12 | | Статус | Published | | Тип стандарта | voluntary national standard | | Язык оригинала | Chinese | | Доступные языки | | | Имя файла | | | CCS Code | G04 | |
|
|
Стандарт GB/T 25188-2010 входит в рубрики классификатора:
| | |
|