 |
 |
|
|
|
|
|
|
|
расширенный поиск | карта сайта |
|
|
|
ISO 17331:2004/Amd.1:2010 |  на печать | | Химический анализ поверхности. Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонных материалов из кремниевых пластин методом рентгеновской флуоресцентной спектроскопии с полным отражением спектра. Изменение 1. Химический анализ |
|
| | Библиография | Обозначение | ISO 17331:2004/Amd.1:2010 | | Статус | Действует | | Вид стандарта | ST | | Заглавие на русском языке | Химический анализ поверхности. Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонных материалов из кремниевых пластин методом рентгеновской флуоресцентной спектроскопии с полным отражением спектра. Изменение 1. Химический анализ | | Заглавие на английском языке | Surface chemical analysis -- Chemical methods for the collection of elements from the surface of siliconwafer working reference materials and their determination by total-reflection Xray fluorescence (TXRF) spectroscopy -- Amendment 1 Analyse chimique | | Код КС (ОКС, МКС) | 71.040.40 | | Документы изменяемые (дополняемые) данным | ISO 17331:2004 | | ТК – разработчик стандарта | TC 201 | | Язык оригинала | английский | | Номер издания | 1 | | Дата опубликования | 05.07.2010 | | Количество страниц оригинала | 8 | | Код цены | XZ | | Примечание | | |
| | Стандарт ISO 17331:2004/Amd.1:2010 входит в рубрики классификатора:
| | |
| |
|
|
|
| Цены |
| На языке оригинала |
3370,00
|
|
|
|