| Обозначение | ISO 17331:2004/Amd.1:2010 |
| Статус | Действует |
| Вид стандарта | ST |
| Заглавие на русском языке | Химический анализ поверхности. Химические методы сбора элементов с поверхности рабочих эталонных материалов из кремниевых пластин методом рентгеновской флуоресцентной спектроскопии с полным отражением спектра. Изменение 1. Химический анализ |
| Заглавие на английском языке | Surface chemical analysis -- Chemical methods for the collection of elements from the surface of siliconwafer working reference materials and their determination by total-reflection Xray fluorescence (TXRF) spectroscopy -- Amendment 1 Analyse chimique |
| Код КС (ОКС, МКС) | 71.040.40 |
| Документы изменяемые (дополняемые) данным | ISO 17331:2004 |
| ТК – разработчик стандарта | TC 201 |
| Язык оригинала | английский |
| Номер издания | 1 |
| Дата опубликования | 05.07.2010 |
| Количество страниц оригинала | 8 |
| Код цены | XZ |
| Примечание | |
 |