|
|
|
|
|
|
|
|
|
расширенный поиск | карта сайта |
|
|
|
ISO 16531:2013 | на печать | Поверхностный химический анализ. Профиль распределения примеси по глубине. Методы регулирования ионного пучка и связанное с этим измерение тока и плотности тока для профилирования примеси по глубине в AES и XPS |
|
| | Библиография Обозначение | ISO 16531:2013 | Статус | Заменен | Вид стандарта | ST | Заглавие на русском языке | Поверхностный химический анализ. Профиль распределения примеси по глубине. Методы регулирования ионного пучка и связанное с этим измерение тока и плотности тока для профилирования примеси по глубине в AES и XPS | Заглавие на английском языке | Surface chemical analysis -- Depth profiling -- Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profiling in AES and XPS | Дата отмены | 05.10.2020 01:00:00 | Код КС (ОКС, МКС) | 71.040.40 | Обозначение заменяющего | ISO 16531:2020 | ТК – разработчик стандарта | TC 201/SC 4 | Язык оригинала | английский | Номер издания | 1 | Дата опубликования | 16.05.2013 | Количество страниц оригинала | 26 | Код цены | C | Примечание | | |
| | Стандарт ISO 16531:2013 входит в рубрики классификатора:
| |
| |
|
|
|
Цены |
На языке оригинала |
Нет
|
|
|