 |
 |
|
|
|
|
|
|
|
расширенный поиск | карта сайта |
|
|
|
ISO 16531:2013 |  на печать | | Поверхностный химический анализ. Профиль распределения примеси по глубине. Методы регулирования ионного пучка и связанное с этим измерение тока и плотности тока для профилирования примеси по глубине в AES и XPS |
|
| | Библиография | Обозначение | ISO 16531:2013 | | Статус | Заменен | | Вид стандарта | ST | | Заглавие на русском языке | Поверхностный химический анализ. Профиль распределения примеси по глубине. Методы регулирования ионного пучка и связанное с этим измерение тока и плотности тока для профилирования примеси по глубине в AES и XPS | | Заглавие на английском языке | Surface chemical analysis -- Depth profiling -- Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profiling in AES and XPS | | Дата отмены | 05.10.2020 01:00:00 | | Код КС (ОКС, МКС) | 71.040.40 | | Обозначение заменяющего | ISO 16531:2020 | | ТК – разработчик стандарта | TC 201/SC 4 | | Язык оригинала | английский | | Номер издания | 1 | | Дата опубликования | 16.05.2013 | | Количество страниц оригинала | 26 | | Код цены | C | | Примечание | | |
| | Стандарт ISO 16531:2013 входит в рубрики классификатора:
| | |
| |
|
|
|
| Цены |
| На языке оригинала |
Нет
|
|
|
|