Постоянная ссылка
https://www.standards.ru/document/5308261.aspx

ISO 16531:2013

Поверхностный химический анализ. Профиль распределения примеси по глубине. Методы регулирования ионного пучка и связанное с этим измерение тока и плотности тока для профилирования примеси по глубине в AES и XPS

На языке оригиналаПоложить в корзину
Заказать перевод

Библиография

ОбозначениеISO 16531:2013
Статус Заменен
Вид стандартаST
Заглавие на русском языкеПоверхностный химический анализ. Профиль распределения примеси по глубине. Методы регулирования ионного пучка и связанное с этим измерение тока и плотности тока для профилирования примеси по глубине в AES и XPS
Заглавие на английском языкеSurface chemical analysis -- Depth profiling -- Methods for ion beam alignment and the associated measurement of current or current density for depth profiling in AES and XPS
Дата отмены05.10.2020 01:00:00
Код КС (ОКС, МКС)71.040.40
Обозначение заменяющегоISO 16531:2020
ТК – разработчик стандарта TC 201/SC 4
Язык оригиналаанглийский
Номер издания1
Дата опубликования16.05.2013
Количество страниц оригинала26
Код ценыC
Примечание

Стандарт ISO 16531:2013 входит в рубрики классификатора: