 |
 |
|
|
|
|
|
|
|
расширенный поиск | карта сайта |
|
|
|
OVE/ONORM EN 62047-16:2016 02 01 |  на печать | | Приборы полупроводниковые. Микроэлектромеханические приборы. Часть 16. Методы определения остаточных напряжений в пленках MEMS. Методы определения отклонения кантилеверной балки и кривизны пластины |
|
| | Библиография | Обозначение | OVE/ONORM EN 62047-16:2016 02 01 | | Заглавие на русском языке | Приборы полупроводниковые. Микроэлектромеханические приборы. Часть 16. Методы определения остаточных напряжений в пленках MEMS. Методы определения отклонения кантилеверной балки и кривизны пластины | | Заглавие на английском языке | Semiconductor devices - Micro-electromechanical devices -- Part 16: Test methods for determining residual stresses of MEMS films – Wafer curvature and cantilever beam deflection methods (IEC 62047-16:2015) (english version) | | Код МКС | 31.080.01 31.080.99 31.220.01 | | Дата опубликования | 01.02.2016 | | Язык оригинала | английский | |
| | |
|
|
|
| Цены |
| На английском языке |
0,00
|
|
|
|