 |
 |
|
|
|
|
|
|
|
расширенный поиск | карта сайта |
|
|
|
ISO 17109:2022 |  на печать | | Химический анализ поверхности. Профилирование глубины. Метод определения скорости распыления при рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, Оже-электронной спектроскопии и вторично-ионной масс-спектрометрии профилирования глубины распыления с использованием однослойных и многослойных тонких пленок |
|
| | Библиография | Обозначение | ISO 17109:2022 | | Статус | Действует | | Вид стандарта | ST | | Заглавие на русском языке | Химический анализ поверхности. Профилирование глубины. Метод определения скорости распыления при рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, Оже-электронной спектроскопии и вторично-ионной масс-спектрометрии профилирования глубины распыления с использованием однослойных и многослойных тонких пленок | | Заглавие на английском языке | Surface chemical analysis Depth profiling Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films | | Код КС (ОКС, МКС) | 71.040.40 | | Обозначение заменяемого(ых) | ISO 17109:2015 | | ТК – разработчик стандарта | TC 201/SC 4 | | Язык оригинала | английский | | Номер издания | 2 | | Дата опубликования | 01.03.2022 | | Количество страниц оригинала | 28 | | Код цены | D | | Примечание | Документ содержит цветные иллюстрации | |
| | Стандарт ISO 17109:2022 входит в рубрики классификатора:
| | |
| |
|
|
|
| Цены |
| На языке оригинала |
24710,00
|
|
|
|