| Обозначение | ISO 17109:2022 |
| Статус | Действует |
| Вид стандарта | ST |
| Заглавие на русском языке | Химический анализ поверхности. Профилирование глубины. Метод определения скорости распыления при рентгеновской фотоэлектронной спектроскопии, Оже-электронной спектроскопии и вторично-ионной масс-спектрометрии профилирования глубины распыления с использованием однослойных и многослойных тонких пленок |
| Заглавие на английском языке | Surface chemical analysis Depth profiling Method for sputter rate determination in X-ray photoelectron spectroscopy, Auger electron spectroscopy and secondary-ion mass spectrometry sputter depth profiling using single and multi-layer thin films |
| Код КС (ОКС, МКС) | 71.040.40 |
| Обозначение заменяемого(ых) | ISO 17109:2015 |
| ТК – разработчик стандарта | TC 201/SC 4 |
| Язык оригинала | английский |
| Номер издания | 2 |
| Дата опубликования | 01.03.2022 |
| Количество страниц оригинала | 28 |
| Код цены | D |
| Примечание | Документ содержит цветные иллюстрации |
 |